CHEMXIN 탄소 분자체 제조업체

Carbon Molecular Sieve는 질소 생성에 사용됩니다. 질소 생성은 PSA 공정으로 수행할 수 있습니다. Carbon Sieve는 여기서 매우 큰 역할을 합니다. 주로 흡착과 탈착은 공정에서 발생하는 물리적 현상입니다. 공기 중 질소(N2)는 약 78%에 가깝습니다.

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탄소 분자체질소 생성에 사용됩니다. 질소 생성은 PSA 공정으로 수행할 수 있습니다. Carbon Sieve는 여기서 매우 큰 역할을 합니다. 주로 흡착과 탈착은 공정에서 발생하는 물리적 현상입니다.

공기 중에는 거의 약 78%의 질소(N2)와 약 20%의 산소(O2)가 존재합니다. 이제 확대해 보면CMSCMS의 단단한 표면을 보려면 해면 구조가 있습니다. CMS는 산소 분자에 대해 특별한 친화력을 가지고 있습니다. 따라서 산소 분자는에 의해 흡착되었습니다탄소 분자체그리고 질소는 흡착될 수 없습니다. CMS의 베드에 압축공기를 통과시키면 산소는 스펀지 구조에 흡착되고, 질소는 베드를 통과하게 됩니다. 이는 공기에 압력을 가하여 달성할 수 있습니다. 점차적으로 CMS 층은 포화되어 평형 상태에 도달합니다. 이때 순수한 질소가스를 퍼지하여 압력이 대기압 수준으로 떨어지면 베드는CMS산소가 탈착되어 활성 모드로 전환됩니다. 흡착과 탈착은 질소의 지속적인 흐름을 제공합니다.

기술적인 매개변수:

모델	탄소 분자체
모습	흑색, 압출형(펠릿)
공칭 기공 직경	4옹스트롬
직경(mm)	0.95mm 1.1-1.3mm, 1.3-1.5mm, 1.5-1.8mm
분쇄 강도 (시험 온도는 20도 이하)	>50N/PC
벌크 밀도	630-680KG/M3
먼지 수준	최대 100PPM
흡착제 시간(S) (시험 온도는 20도 이하)	2*50(조정될 수 있습니다)

CMS-011

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